Kazuo Nate: шукати на сайті Z-Library

Пожертвування 15 вересня 2024 – 1 жовтня 2024 Про збір коштів

Найбільша колекція наукових статей у сіті. 70,000,000+ безкоштовних статей.

Пожертвування 15 вересня 2024 – 1 жовтня 2024

Z-Library - одна з найбільших онлайн-бібліотек у світі, в якій зберігається більше 17,000,000 книг та 84,837,000 статей. Ми намагаємось зробити літературу доступною кожному. Сьогодні (15 вересня 2024) ми відкриваємо додатковий збір пожертвувань на підтримку та розвиток проекту.

Також БЕЗЛІМТНІ завантаження (протягом 31 дня після завершення пожертвування) доступні для ВСІХ користувачів, які підтримають проект в період збору коштів до 1 жовтня 2024.

Про збір коштів Детальніше

Підтримати

Книги
Статті (17)
Найпопулярніші
Перелік
- Перелік
- Таблиця

1

SPIE Proceedings [SPIE Advances in Resist Technology and Processing VIII - San Jose, United States (Monday 4 March 1991)] Advances in Resist Technology and Processing VIII - Bilayer resist system utilizing alkali-developable organosilicon positive photoresist

Nate, Kazuo, Mizushima, Akiko, Sugiyama, Hisashi, Ito, Hiroshi

Рік:

1991

Мова:

english

Файл:

PDF, 184 KB

english, 1991

2

Organosilicon deep UV positive resist consisting of poly(p-disilanylenephenylene)

Kazuo Nate, Takashi Inoue, Hisashi Sugiyama, Mitsuo Ishikawa

Журнал:

Journal of Applied Polymer Science

Рік:

1987

Мова:

english

Файл:

PDF, 762 KB

english, 1987

3

Highly sensitive self-developing soft X-ray resists of silicon-containing aldehyde copolymers and sensitive novolac-based composite resists containing aldehyde copolymer

Kazuo Nate, Takashi Inoue, Hitoshi Yokono, Koichi Hatada

Журнал:

Journal of Applied Polymer Science

Рік:

1988

Мова:

english

Файл:

PDF, 455 KB

english, 1988

4

Study on organosilicon positive resist. I. Syntheses and characterization of silsesquioxane, siloxane, and silmethylene polymers with phenolic hydroxy groups

Hisashi Sugiyama, Takashi Inoue, Kazuo Nate

Журнал:

Journal of Applied Polymer Science

Рік:

1992

Мова:

english

Файл:

PDF, 733 KB

english, 1992

5

Study on organosilicon positive resist. III. Organosilicon positive excimer laser resist (OSPR-2016)

Hisashi Sugiyama, Akiko Mizushima, Kazuo Nate

Журнал:

Journal of Applied Polymer Science

Рік:

1992

Мова:

english

Файл:

PDF, 298 KB

english, 1992

6

Study on organosilicon positive resist. II. Organosilicon positive photoresist (OSPR–1334) and its application to bilayer resist system

Hisashi Sugiyama, Akiko Mizushima, Takashi Inoue, Kazuo Nate

Журнал:

Journal of Applied Polymer Science

Рік:

1992

Мова:

english

Файл:

PDF, 594 KB

english, 1992

7

Ring-opening polymerization of 2-methylene-4-phenyl-1,3-dioxolane

Takeshi Endo, Naoto Yako, Kazumi Azuma, Kazuo Nate

Журнал:

Macromolecular Chemistry and Physics

Рік:

1985

Мова:

english

Файл:

PDF, 184 KB

english, 1985

8

Positive excimer laser resists prepared with aliphatic diazoketones

Hisashi Sugiyama, Keisuke Ebata, Akiko Mizushima, Kazuo Nate

Журнал:

Polymer Engineering & Science

Рік:

1989

Мова:

english

Файл:

PDF, 410 KB

english, 1989

9

Photoinitiated ring-opening polymerization of 2-methylene-1,3-dioxepane

Takeshi Endo, Makoto Okawara, W. J. Bailey, Kazufumi Azuma, Kazuo Nate, Hitoshi Yokono

Журнал:

Journal of Polymer Science Part C: Polymer Letters

Рік:

1983

Мова:

english

Файл:

PDF, 200 KB

english, 1983

10

Photolysis of polymeric organosilicon systems. II. Synthesis and photochemical behavior of poly[p-(disilanylene)phenylene]

Mitsuo Ishikawa, Ni Hongzhi, Kosuke Matsusaki, Kazuo Nate, Takashi Inoue, Hitoshi Yokono

Журнал:

Journal of Polymer Science Part C: Polymer Letters

Рік:

1984

Мова:

english

Файл:

PDF, 149 KB

english, 1984

11

Photolysis of polymeric organosilicon systems. III. Synthesis and photochemical behavior of polysiloxanes containing phenyldisilanyl units

Kazuo Nate, Mitsuo Ishikawa, Naoya Imamura, Yoshihide Murakami

Журнал:

Journal of Polymer Science Part A: Polymer Chemistry

Рік:

1986

Мова:

english

Файл:

PDF, 658 KB

english, 1986

12

Highly sensitive self developing electron-beam resist of aldehyde copolymer

Koichi Hatada, Tatsuki Kitayama, Shigeru Danjo, Heimei Yuki, Hiroaki Aritome, Susumu Namba, Kazuo Nate, Hitoshi Yokono

Журнал:

Polymer Bulletin

Рік:

1982

Мова:

english

Файл:

PDF, 201 KB

english, 1982

13

Photolysis of polymeric organosilicon systems. 4. Photochemical behavior of poly[p-(disilanylene)phenylene]

Nate, Kazuo., Ishikawa, Mitsuo., Ni, Hongzhi., Watanabe, Hiroyuki., Saheki, Yukitami.

Журнал:

Organometallics

Рік:

1987

Мова:

english

Файл:

PDF, 890 KB

english, 1987

14

SPIE Proceedings [SPIE 1988 Microlithography Conferences - Santa Clara, CA (Wednesday 2 March 1988)] Advances in Resist Technology and Processing V - Alkali-Developable Organosilicon Positive Photoresist(OSPR)

Sugiyama, Hisashi, Inoue, Takashi, Mizushima, Akiko, Nate, Kazuo, MacDonald, Scott A.

Рік:

1988

Мова:

english

Файл:

PDF, 5.20 MB

english, 1988

15

Photosensitive organosilicon polymers for microlithographic application

Inoue, Takashi, Sugiyama, Hisashi, Nate, Kazuo, Mizushima, Akiko

Журнал:

Makromolekulare Chemie Macromolecular Symposia

Рік:

1989

Мова:

english

Файл:

PDF, 420 KB

english, 1989

16

Kinetics of the Autoxidation of Substituted Anthranols to Anthraquinones in Buffered Aqueous Dioxane

Ogata, Yoshiro, Nate, Kazuo, Yamashita, Mitsuji

Журнал:

Bulletin of the Chemical Society of Japan

Рік:

1974

Файл:

PDF, 735 KB

1974

17

ChemInform Abstract: KINETICS OF THE AUTOXIDATION OF SUBSTITUTED ANTHRANOLS TO ANTHRAQUINONES IN BUFFERED AQUEOUS DIOXANE

OGATA, YOSHIRO, NATE, KAZUO, YAMASHITA, MITSUJI

Журнал:

Chemischer Informationsdienst

Рік:

1974

Файл:

PDF, 100 KB

1974